1.招标项目名称及内容
项目名称：磁控溅射镀膜机
招标编号：CLF25SX04QY81A/01
本项目共划分为 1 个标段。
招标内容：磁控溅射镀膜机，1台。设备用途：本设备主要用于多种尺寸规格零件表面金属膜、氧化物、氮化物及其多层复合薄膜等的制备。结构：该设备主要由真空腔室、真空系统、真空测量和进气系统、工作台、磁控溅射系统、电源系统、加热系统、冷却循环水系统、控制系统及其他组成。
资金来源：国拨资金。
2.交货期：合同生效后8个月内设备到厂，合同生效后10个月内完成调试交付。