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我国芯片光刻新突破！对产业界意味着什么？三问光刻技术→

我国芯片光刻新突破！对产业界意味着什么？三问光刻技术→

光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然·通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。

2025/10/27

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